Unix 5100 / Sorbent (Russia)*
- Chất liệu: Silicon
- Kết hợp với phin lọc của Sorbent để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp hoàn chỉnh, có hiệu quả lọc tốt nhất:
- Phin Unix 502 với khả năng lọc khói, khí, hơi hữu cơ, vô cơ và axit. tổng hàm lượng oxy trong không khí tối thiểu 17%, lọc các chất độc hại dạng hơi và khí có nhiệt độ sôi trên 65 ° C không quá 50 PEL ở nhiệt độ môi trường từ -40 ° C đến + 40 ° C.

Unix 1100 + 2 phin 531 / Sorbent - Russia
- Vật liệu chế tạo là Silicone nên rất mềm mại, dễ chịu khi mang
- Cấu trúc phù hợp, vừa vặn khuôn mặt người mang. Không ảnh hưởng tầm quan sát của mắt. Không ảnh hưởng khi phải mang thêm các phuong tiện bảo vệ khác như nón, kính bảo hộ, tấm kính che mặt.
- Dây mang có tính năng đàn hồi cao, có thể điều chỉnh chiều dài cho vừa vặn. Thao tác mang vào, tháo ra dễ dàng, nhanh chóng. Dễ dàng vệ sinh khi lau chùi hoặc vệ sinh bằng nước hoặc nước tẩy rửa.
- Nhiệt độ làm việc từ −40 °C đến + 40 °С.
- Đạt tiêu chuẩn EN 140:1998 + AC:1999.

1100 Silicone + 521 / Sorbent - Nga
- Công dụng : lọc loại hơi khí độc hữu cơ (dung môi hữu cơ, axeton, benzene…); vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,HCl,...) ; SO2 và axit.
- Trở lực hô hấp : chỉ 39,2 Pa thấp hơn 2,5 lần mức yêu cầu của tiêu chuẩn EN ( 100/39.2 Pa). Đây là chỉ tiêu quan trọng, đặc biệt khi phải sử dụng trong điều kiện lao động năng nhọc. Việc hô hấp nhẹ nhàng hơn giúp người mang ít tốn sức và có thể duy trì mang mặt nạ trong thời gian dài.
- Thời gian có tác dụng của hộp lọc : Kết quả thử nghiệm với các hơi khí độc mẫu ( với nồng độ, lưu lượng, nhiệt độ, độ ẩm quy định ) dài hơn nhiều so với yêu cầu của tiêu chuẩn EN 14387 - đồng nghĩa với thời gian sử dụng lâu hơn:
+ thời gian có tác dụng bảo vệ với Hydrogen Cyanide đạt 50 phút, dài hơn 2,5 lần (50/25 phút)
+ thời gian có tác dụng bảo vệ với Sulfur dioxide đạt 70 phút, dài gấp 3,5 lần ( 70/20 phút),
+ thời gian có tác dụng bảo vệ với Clorine đạt 50 phút, dài hơn 2,5 lần ( 50/20 phút)
+ thời gian có tác dụng bảo vệ với Hydrogen sulfide đạt 80 phút, dài hơn 2 lần ( 80/40 phút).

- Vật liệu chế tạo là Silicone nên rất mềm mại, dễ chịu khi mang
- Cấu trúc phù hợp, vừa vặn khuôn mặt người mang. Không ảnh hưởng tầm quan sát của mắt. Không ảnh hưởng khi phải mang thêm các phuong tiện bảo vệ khác như nón, kính bảo hộ, tấm kính che mặt.
- Dây mang có tính năng đàn hồi cao, có thể điều chỉnh chiều dài cho vừa vặn. Thao tác mang vào, tháo ra dễ dàng, nhanh chóng. Dễ dàng vệ sinh khi lau chùi hoặc vệ sinh bằng nước hoặc nước tẩy rửa.
- Nhiệt độ làm việc từ −40 ° C đến + 40 ° С.
- Đạt tiêu chuẩn EN 140:1998 + AC:1999.

Unix1100-120/ Sorbent (Russia)*
- Sản phẩm gồm: 1 bán mặt nạ Unix và 2 hộp lọc DETeco 120 A1B1E11
- Bán mặt nạ UNIX : Đạt tiêu chuẩn EN 140:1998 + AC:1999 
- Hộp lọc DOTeco 120 A1B1E1 : Vượt xa các thông số kỹ thuật theo yêu cầu của tiêu chuẩn Châu Âu 
- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2,  EN 14387, CE

Unix 1000 + 2 phin 521/ Sorbent
- Sản phẩm gồm: 1 bán mặt nạ Unix và 2 hộp lọc DETeco 120 A1B1E11
- Bán mặt nạ UNIX : Đạt tiêu chuẩn EN 140:1998 + AC:1999 
- Hộp lọc DOTeco 120 A1B1E1 : Vượt xa các thông số kỹ thuật theo yêu cầu của tiêu chuẩn Châu Âu
- Đạt tiêu chuẩn EN136 Class 2,  EN 14387, CE

Hộp lọc 531 / Sorbent (Rusia)*
- Sử dụng với bán mặt nạ Unix1000 , Unix 1100 hoặc mặt nạ toàn phần Unix 5000 ( tên cũ MAG-2 ) và Unix 5100 để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.
- Lọc loại hơi khí độc hữu cơ ; vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,...) ; SO2 , axit.và amoniac . 
- Sản phẩm đáp ứng và vượt tiêu chuẩn Châu Âu EN 14387

ZEVS-U / Sorbent - Nga*
- Bảo vệ hiệu quả các loại khí độc và CO sinh ra trong quá trình hỏa hoạn trong thời gian >30 phút ~ 60 phút
- ZEVS-U với mũ trùm đầu bảo vệ hô hấp, mắt, mặt và đầu, được trang bị để thoát khỏi vùng bị ô nhiễm,  phát sinh bởi quá trình cháy : carbon monoxide, hơi khí hóa chất độc hại khác, các sol khí trong thành khói, bụi, sương mù tạo ra bởi ngọn lửa.
- ZEVS-U duy trì các đặc tính bảo vệ của nó ngay cả khi điều kiện nhiệt độ đến 200 độ C trong 1 phút và tác động của ngọn lửa với nhiệt độ 800 ± 50 độ C trong 5 giây.
- Dây là thiết bị sử dụng để cứu nạn cho một người  thoát hiểm trong các vụ cháy tại nhà ở, khách sạn, bệnh viện, cao ốc và các đối tượng tương tự khác. Chỉ sử dụng một lần.
- ZEVS-U đáp ứng các yêu cầu của tiêu chuẩn Châu Âu  EN 403: 2004.
- Hàng nhập khẩu trực tiếp có CO, CQ

Unix 5100 / Sorbent (Russia)*
- Chất liệu: Silicon
- Mặt nạ chụp toàn phần
- Kết hợp với phin lọc của Sorbent để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp hoàn chỉnh, có hiệu quả lọc tốt nhất:
1/ Lọc hơi hữu cơ, vô cơ, phun sơn, thuốc trừ sâu
2/ Lọc hơi độc vô cơ, khí gas, Cl2, H2S, HCN
3/ Lọc SO2, HCL...
4/ Lọc Amoniac (NH3)

MAG / Sorbent (Russia) 
- MAG gồm tấm kính lớn, độ bền cao, trong suốt tạo ra trường nhìn rộng, phần cao su mềm bao viền quanh phần kính và tiếp giáp da mặt gồm 2 lớp, có độ bền trước tác động của nhiệt độ và hóa chất độc
- Khớp nối để gắn bình lọc đặt tại trung tâm với van hít vào
- Kết cấu mặt chụp ngoài và mặt chụp phía trong tạo độ kín khít gần như tuyệt đối, chỉ cho phép khí thở đi vào cơ thể sau khi đã qua bộ lọc.
- MAG làm việc tốt trong điều kiện môi trường có nhiệt độ từ -40 ° đến 40 ° C và độ ẩm tương đối lên đến 98%
- Phù hợp với tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003, Class 2

UNIX 6100 / Sorbent - Nga
- Mặt nạ UNIX 6100 có nhiệm vụ cách ly nguồn không khí bị ô nhiễm với cơ quan hô hấp và bảo vệ mắt và mặt người sử dụng.    
- UNIX 6100 có khung nhìn là tấm kính lớn, độ bền cao, trong suốt, không ảnh hưởng đến tầm nhìn của mắt ; phần viền quanh phần kính và tiếp giáp phần da mặt làm từ silicone đàn hồi mềm mại, bền và chịu nhiệt, hóa chất độc; 2 khớp nối phần phía ngoài để gắn hộp lọc ( filter) với 2 van hít vào; phần bán mặt chụp phía trong bao kín mũi mồm có gắn 2 van thở vào và 1 van thở ra.
- Mặt nạ có kết cấu tạo cân bằng tốt, làm giảm sự mệt mỏi cho người dùng dù phải mang trong thời gian dài. Kết cấu mặt chụp ngoài và mặt chụp phía trong tạo độ kín khít gần như tuyệt đối, chỉ cho phép khí thở đi vào cơ thể sau khi đã qua bộ lọc.
- Điều kiện môi trường từ -40°C - 40°C và độ ẩm lên đến 98%..
- Để có bộ mặt nạ toàn phần hoàn chỉnh cần sử dụng thêm phin loc để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp hoàn chỉnh.
- Sản phẩm đáp ứng tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003   

Unix 5000 (MAG-2 ) / Sorbent (Rusia) 
- MAG-2 gồm tấm kính lớn, độ bền cao, trong suốt tạo ra trường nhìn rộng, phần cao su mềm bao viền quanh phần kính và tiếp giáp da mặt gồm 2 lớp, có độ bền trước tác động của nhiệt độ và hóa chất độc
- 2 khớp nối phần phía ngoài để gắn hộp lọc ( filter) với 2 van hít vào
- Kết cấu mặt chụp ngoài và mặt chụp phía trong tạo độ kín khít gần như tuyệt đối, chỉ cho phép khí thở đi vào cơ thể sau khi đã qua bộ lọc.
- MAG làm việc tốt trong điều kiện môi trường có nhiệt độ từ -40 ° đến 40 ° C và độ ẩm tương đối lên đến 98%
- Phù hợp với tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003, Class 2.

Phin BMN Nga tổng hợp 521*
- Sử dụng với bán mặt nạ UNIX hoặc mặt nạ toàn phần MAG-2 để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.
- Khả năg :  lọc loại hơi khí độc hữu cơ ( độ sôi >650C ); vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,...) ; SO2 và axit.

DOTeco 120 / 502(A2) / Sorbent (Rusia)*
- Sử dụng với bán mặt nạ UNIX hoặc mặt nạ toàn phần MAG-2 để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.
- Khả năg :  lọc các chất độc hại dạng hơi và khí có nhiệt độ sôi trên 65 ° C không quá 50 PEL ở nhiệt độ môi trường từ -40 ° C đến + 40 ° C.
- Tuân thủ các tiêu chuẩn EN 14387

MAG - 4  / Sorbent
- Gồm tấm kính lớn, độ bền cao, trong suốt tạo ra trường nhìn rộng, phần silicone mềm bao viền quanh phần kính và tiếp giáp da mặt gồm 2 lớp, có độ bền trước tác động của nhiệt độ và hóa chất độc
- Khớp nối để gắn bình lọc đặt tại trung tâm với van hít vào
- Kết cấu mặt chụp ngoài và mặt chụp phía trong tạo độ kín khít gần như tuyệt đối, chỉ cho phép khí thở đi vào cơ thể sau khi đã qua bộ lọc.
- MAG 4 làm việc tốt trong điều kiện môi trường có nhiệt độ từ -40 ° đến 40 ° C và độ ẩm tương đối lên đến 98%
- Phù hợp với tiêu chuẩn EN 136: 1998 + AC: 2003, Class 2

P1 RD / Sorbent (Rusia)*
- Phin lọc được thiết kế để bảo vệ hệ hô hấp khi làm việc trong môi trường ô nhiễm các loại bụi ( sol khí ) khác nhau.
- Phin lọc sử dụng  hiệu quả khi nồng độ oxy tự do trong không khí vùng làm việc > 17% và nồng độ bụi ( sol khí ) đến 200 mg / m3 và cao hơn.
- Phin lọc đạt tiêu chuẩn Châu Âu EN 143:2000+A1:2006  với hiệu quả lọc ở mức cao nhất là P3 ( 99.95% ).
- Phin lọc có thể tái sử dụng ( ký hiệu R)  với tính năng chống bụi ( ký hiệu D).
- Phin lọc DOTeco P1 RD được sử dụng với mặt chụp toàn phần UNIX 5000, UNIX 5100 và các bán mặt chụp UNIX 1000 , UNIX 1100 để lọc các loại bụi  khô và cả bụi trong điều kiện độ ẩm cao.
- Nhiệt độ hoạt động: (-40 đến +40°C)

UNIX 213 P3RD / Sorbent - Nga
- Sử dụng với mặt nạ toàn cảnh UNIX 6100, UNIX 5000 và UNIX 5100 hoặc mặt nạ nửa mặt UNIX 1000 và UNIX 1100 để bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi sol khí (hơn 200 mg / m3) và khí và hơi hữu cơ có hại hiện diện trong không khí của khu vực làm việc
- Tấm lọc được gắn vào mặt kính bằng kết nối lưỡi lê. Tấm lọc RD của UNIX 213 P3 RD có hiệu suất cao, có thể tái sử dụng và chống bụi
- Nhiệt độ môi trường từ -40 đến + 40 ° С. 
- Tiêu chuẩn: EN 143:2000 + A1: 2006

UNIX203 P3RD / Sorbent - Nga
- Sử dụng với mặt nạ toàn cảnh UNIX 6100, UNIX 5000 và UNIX 5100 hoặc mặt nạ nửa mặt UNIX 1000 và UNIX 1100 để bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi sol khí (hơn 200 mg / m3) và khí và hơi hữu cơ có hại hiện diện trong không khí của khu vực làm việc
- Tấm lọc được gắn vào mặt kính bằng kết nối lưỡi lê. Tấm lọc RD của UNIX 203 P3 RD có hiệu suất cao, có thể tái sử dụng và chống bụi
- Nhiệt độ môi trường từ -40 đến + 40 ° С. 
- Đạt tiêu chuẩn: EN 143

P3 RD / Sorbent (Rusia)*
- Phin lọc được thiết kế để bảo vệ hệ hô hấp khi làm việc trong môi trường ô nhiễm các loại bụi ( sol khí ) khác nhau.
- Phin lọc sử dụng  hiệu quả khi nồng độ oxy tự do trong không khí vùng làm việc > 17% và nồng độ bụi ( sol khí ) đến 200 mg / m3 và cao hơn.
- Phin lọc đạt tiêu chuẩn Châu Âu EN 143:2000+A1:2006  với hiệu quả lọc ở mức cao nhất là P3 ( 99.95% ).
- Phin lọc có thể tái sử dụng ( ký hiệu R)  với tính năng chống bụi ( ký hiệu D).
- Phin lọc DOTeco P3 RD được sử dụng với mặt chụp toàn phần UNIX 5000, UNIX 5100 và các bán mặt chụp UNIX 1000 , UNIX 1100 để lọc các loại bụi  khô và cả bụi trong điều kiện độ ẩm cao.
- Nhiệt độ hoạt động của nó  từ -40 đến + 40 ° C.
- Nhà sản xuất : Sorbent - Nga