320 A2B2E2P3/Sobent (Nga)
- Sử dụng với mặt nạ toàn phần MAG để tạo thành bộ bảo vệ hô hấp chống hơi độc hữu cơ, vô cơ, hơi a-xít (Có thể sử dụng với mặt nạ toàn phần châu Âu )- Ngoài khả năng lọc hơi khí độc, phin lọc này có tính năng lọc bụi ở mức gần như tuyết đối - mức P3 ( 99,95% ) và có thể tái sử dụng - Sản phẩm đạt chỉ tiêu theo tiêu chuẩn Châu Âu EN 14387:2004 + A1 2008.

PHIN LỌC UNIX 213 P3RD- Sử dụng với mặt nạ toàn cảnh UNIX 6100, UNIX 5000 và UNIX 5100 hoặc mặt nạ nửa mặt UNIX 1000 và UNIX 1100 để bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi sol khí (hơn 200 mg / m3) và khí và hơi hữu cơ có hại hiện diện trong không khí của khu vực làm việc- Tấm lọc được gắn vào mặt kính bằng kết nối lưỡi lê. Tấm lọc RD của UNIX 213 P3 RD có hiệu suất cao, có thể tái sử dụng và chống bụi.- Nhiệt độ môi trường từ -40 đến + 40 ° С. - Tiêu chuẩn: EN 143:2000 + A1: 2006