DOTpro 460+ A2B2E2K2 / Sorbent (Rusia)
- Sử dụng với mặt nạ toàn phần MAG để tạo thành bộ bảo vệ hô hấp chống hơi độc hữu cơ, vô cơ, hơi a-xít, khí ammoniac độc hại trong không khí (Có thể sử dụng với mặt nạ toàn phần châu Âu )
- Sản phẩm đạt chỉ tiêu theo tiêu chuẩn Châu Âu EN 14387:2004 + A1 2008.

DOTpro 460 K3 / Sorbent - Nga
- Sử dụng với mặt nạ toàn phần MAG để tạo thành bộ bảo vệ hô hấp chống hơi khí ammoniac độc hại trong không khí.( Có thể sử dụng với mặt nạ toàn phần châu Âu)
- Sản phẩm đạt chỉ tiêu theo tiêu chuẩn Châu Âu EN 14387:2004 + A1 2008, trong đó :
+ Thời gian có tác dụng bảo vệ khi kiểm tra với ammoniac nồng độ 7 mg / lít là 60 phút
+ Trở lực khi dòng không khí lưu lượng 30 lít/phút đi qua là 140Pa
+ Trọng lượng 400g ( nhẹ hơn 20% so với quy định tiêu chuẩn EN )

DOTpro 320 A2P3 RD / Sorbent
- Phin lọc đa năng phù hợp sử dụng với mặt nạ nguyên mặt nhằm bảo vệ cơ quan hô hấp tránh tiếp xúc với khí độc và hơi hữu cơ có nhiệt độ sôi> 65 ° C, bụi bẩn, bụi sơn,.....
- Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG
- Bộ lọc tuân thủ EN 14387.

320 A2B2E2P3/Sobent (Nga)
- Sử dụng với mặt nạ toàn phần MAG để tạo thành bộ bảo vệ hô hấp chống hơi độc hữu cơ, vô cơ, hơi acid (Có thể sử dụng với mặt nạ toàn phần châu Âu)
- Ngoài khả năng lọc hơi khí độc, phin lọc này có tính năng lọc bụi ở mức gần như tuyết đối - mức P3 ( 99,95% ) và có thể tái sử dụng 
- Sản phẩm đạt chỉ tiêu theo tiêu chuẩn Châu Âu EN 14387:2004 + A1 2008.

DOTPro 320 A2B2E2K2P3 RD / Sorbent - Russia
- Bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi các chất khí, hơi và hạt có hại.

Phin 6009 / 3M (Mỹ-TQ)
- Dùng lọc khí độc Clo và thuỷ ngân trong phòng thí nghiệm
- Đạt tiêu chuẩn CSA Z94.4 và OH&ESD

Hộp lọc 531 / Sorbent (Rusia)*
- Sử dụng với bán mặt nạ Unix1000 , Unix 1100 hoặc mặt nạ toàn phần Unix 5000 ( tên cũ MAG-2 ) và Unix 5100 để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.
- Lọc loại hơi khí độc hữu cơ ; vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,...) ; SO2 , axit.và amoniac . 
- Sản phẩm đáp ứng và vượt tiêu chuẩn Châu Âu EN 14387

Phin BMN Nga tổng hợp 521*
- Sử dụng với bán mặt nạ UNIX hoặc mặt nạ toàn phần MAG-2 để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.
- Khả năg :  lọc loại hơi khí độc hữu cơ ( độ sôi >650C ); vô cơ ( như Cl2, H2S, HCN,...) ; SO2 và axit.

DOTeco 120 / 502(A2) / Sorbent (Rusia)*
- Sử dụng với bán mặt nạ UNIX hoặc mặt nạ toàn phần MAG-2 để tạo thành phương tiện bảo vệ hô hấp lọc hơi khí độc tổng hợp hoàn chỉnh.
- Khả năg :  lọc các chất độc hại dạng hơi và khí có nhiệt độ sôi trên 65 ° C không quá 50 PEL ở nhiệt độ môi trường từ -40 ° C đến + 40 ° C.
- Tuân thủ các tiêu chuẩn EN 14387

P1 RD / Sorbent (Rusia)*
- Phin lọc được thiết kế để bảo vệ hệ hô hấp khi làm việc trong môi trường ô nhiễm các loại bụi ( sol khí ) khác nhau.
- Phin lọc sử dụng  hiệu quả khi nồng độ oxy tự do trong không khí vùng làm việc > 17% và nồng độ bụi ( sol khí ) đến 200 mg / m3 và cao hơn.
- Phin lọc đạt tiêu chuẩn Châu Âu EN 143:2000+A1:2006  với hiệu quả lọc ở mức cao nhất là P3 ( 99.95% ).
- Phin lọc có thể tái sử dụng ( ký hiệu R)  với tính năng chống bụi ( ký hiệu D).
- Phin lọc DOTeco P1 RD được sử dụng với mặt chụp toàn phần UNIX 5000, UNIX 5100 và các bán mặt chụp UNIX 1000 , UNIX 1100 để lọc các loại bụi  khô và cả bụi trong điều kiện độ ẩm cao.
- Nhiệt độ hoạt động: (-40 đến +40°C)

UNIX 213 P3RD / Sorbent - Nga
- Sử dụng với mặt nạ toàn cảnh UNIX 6100, UNIX 5000 và UNIX 5100 hoặc mặt nạ nửa mặt UNIX 1000 và UNIX 1100 để bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi sol khí (hơn 200 mg / m3) và khí và hơi hữu cơ có hại hiện diện trong không khí của khu vực làm việc
- Tấm lọc được gắn vào mặt kính bằng kết nối lưỡi lê. Tấm lọc RD của UNIX 213 P3 RD có hiệu suất cao, có thể tái sử dụng và chống bụi
- Nhiệt độ môi trường từ -40 đến + 40 ° С. 
- Tiêu chuẩn: EN 143:2000 + A1: 2006

UNIX203 P3RD / Sorbent - Nga
- Sử dụng với mặt nạ toàn cảnh UNIX 6100, UNIX 5000 và UNIX 5100 hoặc mặt nạ nửa mặt UNIX 1000 và UNIX 1100 để bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi sol khí (hơn 200 mg / m3) và khí và hơi hữu cơ có hại hiện diện trong không khí của khu vực làm việc
- Tấm lọc được gắn vào mặt kính bằng kết nối lưỡi lê. Tấm lọc RD của UNIX 203 P3 RD có hiệu suất cao, có thể tái sử dụng và chống bụi
- Nhiệt độ môi trường từ -40 đến + 40 ° С. 
- Đạt tiêu chuẩn: EN 143

P3 RD / Sorbent (Rusia)*
- Phin lọc được thiết kế để bảo vệ hệ hô hấp khi làm việc trong môi trường ô nhiễm các loại bụi ( sol khí ) khác nhau.
- Phin lọc sử dụng  hiệu quả khi nồng độ oxy tự do trong không khí vùng làm việc > 17% và nồng độ bụi ( sol khí ) đến 200 mg / m3 và cao hơn.
- Phin lọc đạt tiêu chuẩn Châu Âu EN 143:2000+A1:2006  với hiệu quả lọc ở mức cao nhất là P3 ( 99.95% ).
- Phin lọc có thể tái sử dụng ( ký hiệu R)  với tính năng chống bụi ( ký hiệu D).
- Phin lọc DOTeco P3 RD được sử dụng với mặt chụp toàn phần UNIX 5000, UNIX 5100 và các bán mặt chụp UNIX 1000 , UNIX 1100 để lọc các loại bụi  khô và cả bụi trong điều kiện độ ẩm cao.
- Nhiệt độ hoạt động của nó  từ -40 đến + 40 ° C.
- Nhà sản xuất : Sorbent - Nga